Material óptico infravermelho refere-se aos materiais especialmente usados para processar ou transmitir luz infravermelha. Tem excelentes propriedades ópticas e mecânicas e é amplamente utilizado em lasers infravermelhos, sensores infravermelhos e outros dispositivos ópticos. Materiais ópticos infravermelhos têm transmitância diferente em diferentes bandas, geralmente divididos em infravermelho próximo (nir, 0,7um ~ 2,5um), infravermelho médio (mir, 2,5um ~ 25um) e infravermelho distante (abeto, 25um ~ 1000um) de acordo com o comprimento de onda.
O material óptico infravermelho refere-se aos materiais especialmente usados para processar ou transmitir luz infravermelha. Tem excelentes propriedades ópticas e mecânicas e é amplamente utilizado em lasers infravermelhos, sensores infravermelhos e outros dispositivos ópticos. Materiais ópticos infravermelhos têm transmitância diferente em diferentes bandas, geralmente divididos em infravermelho próximo (NIR, 0.7um ~ 2.5um), infravermelho médio (MIR, 2.5um ~ 25um) e infravermelho distante (FIR, 25um ~ 1000um) de acordo com o comprimento de onda
| Propriedade | Fluoreto de bário (BaF2.) | Fluoreto de cálcio (CaF2.) | Brometo de césio (CsBr) | Iodeto de césio (S) |
| Faixa de transmissão | 0, 25-9, 5 μm (>90%) | 0, 13-10 μm (>90%) | 0, 35-32 μm (>80%) | 0, 42-40 μm (>80%) |
| Índice de refração | 1.466 @ 1.7 μm | 1,428 @ 1,064 μm | 1.668 @ 4 μm | 1,743 @ 4 μm |
| 1,455 @ 4 μm | 1.425 @ 1.7 μm | 1,663 @ 10 μm | 1,739 @ 10 μm | |
| 1,4096 @ 4 μm | 1.629 @ 25 μm | 1,708 @ 30 μm | ||
| Thermo-Óptica (dn/dT) | − 15,2 × 10 ⁻/ K | − 11,0 × 10 ⁻/ K | + 79 × 10 ⁻⁶/°C | − 99 × 10 ⁻⁶/°C |
| Densidade | 4,89g/cm³ | 3,18g/cm³ | 4,44g/cm³ | 4,51g/cm³ |
| Dureza (Knoop) | 82 kg/mm² | 158 kg/mm² | 19,5 kg/mm² | 20 kg/mm² |
| Módulo de Ruptura | 3800 psi | 5295 psi | 1218 psi | 809 psi |
| Expansão térmica | 18,1 × 10 ⁻⁶/°C | 18,85 × 10 ⁻⁶/°C | 47,9 × 10 ⁻⁶/°C | 50 × 10 ⁻⁶/°C |
| Acabamento de superfície | UV/VIS: 20-10 scratch-dig | UV/VIS: 20-10 scratch-dig | IR: 60-40, 80-50 ou 120-80 scratch-dig | IR: 60-40, 80-50 ou 120-80 scratch-dig |
| NIR: 40-20 scratch-dig | NIR: 40-20 scratch-dig | |||
| MWIR: 60-40 scratch-dig | MWIR: 60-escavação | |||
| Figura de superfície | UV/VIS: 1/10-1/4 onda @ 0,6328 μm | UV/VIS: 1/10-1/4 onda @ 0,6328 μm | IR: 1/10-1/40 onda @ 10.6 μm | IR: 1/10-1/40 onda @ 10.6 μm |
| IR: 1/2-2 onda @ 0,6328 μm | IR: 1/4-2 onda @ 0.6328 μm | |||
| Opções de revestimento AR | 0, 8-2, 5 μm, 3-5 μm, 1-5 μm BBAR | 0, 8-2, 5 μm, 3-5 μm BBAR | AR & BBAR resistente à umidade (personalizável para gama CsBr) | AR & BBAR resistente à umidade (personalizável para gama CsI) |
| AR de banda dupla (3, 5-1, 1 μm & 7, 5-10, 5 μm) | AR de banda dupla (MWIR/LWIR) | |||
| AR de banda tripla (NIR/MWIR) | ||||
| Aplicações típicas | Imagens térmicas, astronomia, óptica a laser (lentes, janelas, divisores de feixe) | Imagem, microlitografia, óptica a laser (lentes, prismas, janelas) | Espectroscopia FTIR, janelas a laser CO2., imagens de alta resolução | |
| Espectroscopia IR, proteção a laser CO2., instrumentos analíticos |
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